Líneas de Investigación > Línea de SiGe > Lanaksig

 

                        Grupo de Nuevos Materiales                                                                             

Presentación LANAKSIG

Proyectos de Investigación Línea SiGe

Publicaciones Línea SiGe

Trabajos:
(PFC, Tesinas y Tesis)
Línea SiGe

Grupo Nuevos Materiales

Instalaciones y Equipamiento


Proyecto de Investigación financiado por el
Ministerio de Educación y Ciencia (MAT2003-04908)

Procesamiento láser para nanotecnología: Capas delgadas de
silicio-germanio-carbono sobre dieléctricos de alto-k (LANAKSIG)

 
 
   
Esquema del sistema experimental

LCVD ( Laser induced Chemical Vapour Deposition )

ELC ( Excimer Laser assisted Crystallization )

Medidas "in situ" de reflectividad y su objetivo

 

Fotos del sistema experimental

Láser con sistema de vacío

thm_FotoCam.jpg

Ventana

Portasubstrato
thm_FotoCam.jpg
thm_FotoCam.jpg

 

Resultados LCVD

Depósito sobre oblea de 3" y en regiones pequeñas
Perfil en profundidad y rugosidad superficial
thm_FotoCam.jpg
thm_FotoCam.jpg

Composición

thm_FotoCam.jpg

 

 

Resultados ELC

Efusión de hidrógeno y cristalización "paso a paso"

Segregación de los elementos

Nanocristales

 
 
última actualización: 16-02-2006 ( schiussi@uvigo.es )